绕过EUV技术 佳能着手销售5nm芯片生产设

光刻机大厂佳能近期宣布已经开始销售基于“纳米印刷”技术的芯片生产设备，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5纳米芯片。这套生产设备的工作原理与ASML的光刻机是不一样的，其并不利用光学图像投影的原理，将集成电路的微观结构转移到硅晶圆，则是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。

与传统的EUV光刻技术相比，这项技术能够大大的降低耗能，并且可以降低设备成本。虽然这项技术的优点很明显，但是现阶段导入量产上仍然有很多问题需要继续解决，包括更容易因为空气当中的细微尘埃影响而形成瑕疵。本次佳能发布的设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆，从而能够生产出相当于5纳米工艺的芯片。