千亿赛道！国产刻蚀机 被卡脖子依旧不负众望

我国在半导体科技方面被国际力量层层加码限制仍然取得了突破性的进展，在去年国庆节之后美国对于高端的3D NAND芯片和DRAM芯片的控制力度进一步加强，在上个月荷兰还宣布对深紫外光刻机等半导体制造设备的出口进行管制，日本也新增加了23种对于出口设备的管制，这也表示国内的半导体公司发展在未来充满艰难。

资本市场的狂欢

半导体设备的投资也引起了股票方面的剧烈变化，国内生产刻蚀设备的中微公司在一天之内股价上涨幅度就达到12%，去年的营业收入和归母净利润同比增长分别达到52%和16%，光驰半导体的半导体原子层镀膜和刻蚀设备项目在一期也已经封顶，预计建成之后产能接近5台刻蚀机，这也表示我国的半导体设备公司目前已经具备了一定的竞争力，然而和世界市场相比，现在占有的份额仍然不算多。

做好选择很重要

光刻和蚀刻是集成电路的生产过程中使用范围最广泛、重复性最多的工艺，而且刻蚀机在生产线当中占据着很大的成本比重，经历2019年的行业需求萎缩之后，现在这一领域的需求又出现了周期性的增长，对于电子产品的需求进一步升高也表示着这一行业又出现了新的竞争点，预计未来三年中刻蚀设备的整体增长速度都会处于比较高的水平，蚀刻机的生产技术比较复杂，生产门槛也比较高，做出合适的选择至关重要，现在先进的工艺芯片受到波长的限制，这也表示生产过程中要用到多重模板工艺，对于生产车间的要求也是更高的挑战，还要进一步提升相关设备的生产水平，这也是一大挑战。